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Energy dissipation in atomic force microscopy and atomic loss processes

机译:原子力显微镜和原子损失过程中的能量耗散

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摘要

Atomic scale dissipation measurements with a linearized, ultrasmall amplitude atomic force microscope capable of measuring dissipation at chosen, fixed separations were presented. The dc hysteresis associated with nanoscale plasticity in the contact regime was observed. It was shown that the dynamic dissipation is of the order of a few 10-100 meV per cycle in the non-contact regime. Analyzation revealed that the hysteresis energy loss was found to be 1 order of magnitude higher for a silicon surface than for copper.
机译:提出了一种线性化,超小振幅原子力显微镜的原子尺度耗散测量,该显微镜能够在选定的固定间隔处测量耗散。观察到在接触状态下与纳米级可塑性相关的直流磁滞现象。结果表明,在非接触状态下,动态耗散约为每个周期10-100 meV。分析表明,发现硅表面的滞后能量损失比铜表面高1个数量级。

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